ePLACE - Software für die Daten­vorbereitung in der Elektronenstrahl­lithographie

Was ist Elektronenstrahl­lithographie?

Mittels Elektronenstrahl­lithographie wird die Oberfläche von Wafern, Masken oder anderen flachen Substraten mit einem Elektronen­strahl strukturiert. Dies ist ein wichtiger Teilschritt beim Herstellen von Halbleiter-Chips und optischen Elementen wie Hologrammen oder mikroskopischen Linsen. 

Zunächst muss klar sein, welche Strukturen auf dem Substrat entstehen sollen. Dieses Layout mit Belichtungs­strukturen muss dann in ein Format umgewandelt werden, welches von Elektronenstrahl­schreibern gelesen werden kann. Diese Umwandlung ist Aufgabe der Daten­vorbereitung. Die Daten­vorbereitung in ePLACE umfasst außerdem

• das Kombinieren von Ebenen aus dem Design­layout durch boolesche Operationen und
• geometrische Operationen auf dem Layout, wie Verschiebungen und Skalierungen.

Außerdem stellt ePLACE folgende Features bereit:

• eine benutzerfreundliche Oberfläche
• eine Architektur, die den Daten­vorbereitungsprozess auf hunderte CPUs verteilen kann
• eine integrierte Proximity-Effekt-Korrektur und physikalische Simulationen
• umfangreiche Visualisierungs­funktionen für jeden Verarbeitungs­schritt

Download: ePLACE Flyer (PDF; englisch)