ePLACE - Software für die Datenvorbereitung in der Elektronenstrahllithographie
Was ist Elektronenstrahllithographie?
Mittels Elektronenstrahllithographie wird die Oberfläche von Wafern, Masken oder anderen flachen Substraten mit einem Elektronenstrahl strukturiert. Dies ist ein wichtiger Teilschritt beim Herstellen von Halbleiter-Chips und optischen Elementen wie Hologrammen oder mikroskopischen Linsen.
Datenvorbereitung mit ePLACEZunächst muss klar sein, welche Strukturen auf dem Substrat entstehen sollen. Dieses Layout mit Belichtungsstrukturen muss dann in ein Format umgewandelt werden, welches von Elektronenstrahlschreibern gelesen werden kann. Diese Umwandlung ist Aufgabe der Datenvorbereitung. Die Datenvorbereitung in ePLACE umfasst außerdem
- das Kombinieren von Ebenen aus dem Designlayout durch boolesche Operationen und
- geometrische Operationen auf dem Layout, wie Verschiebungen und Skalierungen.
Außerdem stellt ePLACE folgende Features bereit:
- eine benutzerfreundliche Oberfläche
- eine Architektur, die den Datenvorbereitungsprozess auf hunderte CPUs verteilen kann
- eine integrierte Proximity-Effekt-Korrektur und physikalische Simulationen
- umfangreiche Visualisierungsfunktionen für jeden Verarbeitungsschritt
Download: ePLACE Flyer (PDF; englisch)