ePLACE - Software für die Daten­vorbereitung in der Elektronenstrahl­lithographie

Was ist Elektronenstrahl­lithographie?

Mittels Elektronenstrahl­lithographie wird die Oberfläche von Wafern, Masken oder anderen flachen Substraten mit einem Elektronen­strahl strukturiert. Dies ist ein wichtiger Teilschritt beim Herstellen von Halbleiter-Chips und optischen Elementen wie Hologrammen oder mikroskopischen Linsen. 

Datenvorbereitung mit ePLACE

Zunächst muss klar sein, welche Strukturen auf dem Substrat entstehen sollen. Dieses Layout mit Belichtungs­strukturen muss dann in ein Format umgewandelt werden, welches von Elektronenstrahl­schreibern gelesen werden kann. Diese Umwandlung ist Aufgabe der Daten­vorbereitung. Die Daten­vorbereitung in ePLACE umfasst außerdem

  • das Kombinieren von Ebenen aus dem Design­layout durch boolesche Operationen und
  • geometrische Operationen auf dem Layout, wie Verschiebungen und Skalierungen.

Außerdem stellt ePLACE folgende Features bereit:

  • eine benutzerfreundliche Oberfläche
  • eine Architektur, die den Daten­vorbereitungsprozess auf hunderte CPUs verteilen kann
  • eine integrierte Proximity-Effekt-Korrektur und physikalische Simulationen
  • umfangreiche Visualisierungs­funktionen für jeden Verarbeitungs­schritt

Download: ePLACE Flyer (PDF; englisch)

Wir nutzen Cookies auf unserer Website. Einige von ihnen sind essenziell für den Betrieb der Seite, während andere uns helfen, diese Website und die Nutzererfahrung zu verbessern (Tracking Cookies). Sie können selbst entscheiden, ob Sie die Cookies zulassen möchten. Bitte beachten Sie, dass bei einer Ablehnung womöglich nicht mehr alle Funktionalitäten der Seite zur Verfügung stehen.